第225章以最强力的方式回应
随著徐铭的话音落下，丁顺安院士先是沉思，约摸过去小半分钟时间，突然像是想到了什么，猛地抬起头脸上浮现出欣喜表情。
「好办法。」
「让多路雷射同时激发，这样一来的话，所产生的稳定光源功率定会提升。」
「达到商用的250瓦也就不是问题。」
他对于这次实验验证的结果，无疑感到很高兴，既证明了徐铭提出的设想可行，又让大家这几个月以来的努力没有白费。但碍于目前国内正遭遇的困境，他太过想要赶紧解决当下局面。
所以才会对稳定极紫外光源的功率感到遗憾。
毕竟实验功率，只有商用数值的五分之一大小，想让其增长的话，仍需投入大量时间研究。
相当于又延长了国产高端光刻机的研发周期。
但他万万没有想到，这个担忧的问题，在徐铭口中竟显得如此简单。
仿佛随时就能解决。
关键他在脑海中进行研判后，确定可行性很高，若采用徐铭的方法，就算达不到商用的250瓦，也绝对会比现在的数值高出很多。
无疑又是一个巨大的惊喜。
快速回过神来，他有些控制不住情绪，下秒主动向徐铭询问确认。
「徐总师。」
「是不是你早就想过这个问题了？」
主要从得到验证数据，到徐铭给出解决方案，前后连两分钟都不到，实在让人无法相信，这是临时刚想出来的光源功率应对方法。
而丁顺安院士的这句话，也成功引起了，现场其他人的好奇目光。
纷纷凝聚过来视线。
连贺鹏涛院士也笑著附和道：「现在啊，我从徐总师口中听到什么都不奇怪「」
。
春城光机所研究多少年的核心光源系统，在徐铭这里只用几个月便验证成功，让他不免有一种先前都在研究什么的羞愧感，若早换作徐铭来负责，恐怕现在国产高端光刻机技术早就领先全球喽。
也不至于搞得像现在这么被动。
徐铭听完两人的话，看向大家的目光，嘴角浮现著淡淡笑容如实回答。
「我确实考虑过光源功率问题，只是因为多环结构的光源靶盘，设计研发难度会比正常高出不少，为了尽快验证这项理论设想，才暂时放弃了极紫外光源的功
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