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第81章 露底核心图纸,誓破光刻机封锁[2 / 3]

南作为芯片研发负责人,最清楚这套产线的分量,当即失声开口,语气满是震惊:

“苏总!90nm完整量产产线?这根本不是现阶段国内企业能落地的设备!目前全国最顶尖的晶圆厂,都还卡在130nm制程摸索,90nm设备全部被海外封锁,有钱都买不到啊!”

其余三人也纷纷点头,心头掀起惊涛骇浪。

2007年的国内半导体行业,处境堪称举步维艰。

西方凭借《瓦森纳协定》,对中国实施严格的技术与设备禁运,高端光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备一概限售。

仅有的老旧淘汰设备也被漫天抬价,国内厂商全程被卡脖子,毫无议价权。

谁能手握一套90nm完整量产产线,就等于直接站在了国内半导体行业的最顶端!

面对众人的震惊,苏诚神色依旧平静,缓缓抬手,指了指脚下的图纸:

“生产线只是基础,真正的底牌,在这里。”

苏诚趁着他们没来前,就从系统空间中搬运出来的。

四人下意识低头望去,瞬间全员僵在原地,呼吸都骤然停滞。

不知何时,苏诚身旁的地面上,层层叠叠铺了海量的高精度工程图纸,厚厚一摞又一摞。

图纸之上,全是极其精密的机械结构图、光学光路图、电路布线图、制程工艺流程图。

标注着微米级,纳米级的精准参数。

每一处细节都严谨到极致,是普通人根本看不懂的顶级工业图纸。

“这……这是?”钱晋瞪大双眼,声音都微微发颤。

苏诚字字铿锵,缓缓揭晓答案:“这不是单一设备图纸,是全套90nm半导体设备完整设计图纸。”

“包含193nmArF光刻机整机图纸、光学镜头组、双工件台、精密对准系统全套参数。

干法湿法兼容刻蚀机图纸、PECVD、LPCVD、PVD全系列薄膜沉积设备图纸、高能离子注入机、CMP化学机械抛光设备、全自动晶圆传输系统……

所有产线配套设备,无一遗漏,全部齐全。”

每吐出一个设备名称,四人的心脏就狠狠抽搐一下。

这些设备,每一台都是国内半导体行业梦寐以求,求而不得的核心重器。

是海外严防死守,绝对封锁的顶尖技术。

如今一整套完

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